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    制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))  8486202100

    申报实例汇总

    商品编码 商品名称
    8486202100 预镀膜机(旧)
    8486202100 镀膜机
    8486202100 钨膜化学气相沉积设备
    8486202100 金属有机物化学气相淀积设备
    8486202100 金属有机物化学气相沉积设备
    8486202100 金属有机物化学气相沉积系统
    8486202100 金属有机物化学气相沉积台
    8486202100 金属有机物化学气相沉淀炉
    8486202100 金属有机源气相沉积设备
    8486202100 金属有机化合物气相淀积法设备/成套散件
    8486202100 金属有机化合物气相淀积法设备
    8486202100 酸化膜成长装置
    8486202100 连续式电子束蒸发系统
    8486202100 背封炉（旧）
    8486202100 等离子沉积设备(旧)
    8486202100 等离子增强型化学气相沉积台（旧）
    8486202100 等离子增强化学气象沉积系统（见清单）
    8486202100 等离子增强化学气相沉积装置
    8486202100 等离子增强化学气相沉积系统
    8486202100 等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机
    8486202100 等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统
    8486202100 等离子化学气相沉积装置
    8486202100 等离子加强型化学气体淀积装置
    8486202100 等离子体增强化学气相沉积装置
    8486202100 等离子体CVD纳米材料生长系统
    8486202100 立式扩散炉(旧)01年产,已用17年,还可用8年
    8486202100 磁性薄膜联合生长系统
    8486202100 电浆辅助化学气相沉积系统
    8486202100 电浆辅助化学气相沉积仪(旧)
    8486202100 电浆辅助化学气相沉积(旧)
    8486202100 水平化学气相沉积装置(旧）
    8486202100 气体混合柜成套散件/RESI
    8486202100 材料沉积系统(实验室用)
    8486202100 有机金属化学气相沉积炉
    8486202100 旧钨化学气相沉积装置
    8486202100 旧化学气相沉积装置,原价JPY4000000/台
    8486202100 旧低压化学气相沉积装置,原价JPY4000000/台
    8486202100 微波辅助化学气相沉积系统
    8486202100 射频等离子增强化学气相沉积系统
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)97#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)94#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)92#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)86#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)83#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)82#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)77#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)76#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4033#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4032#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4030#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4028#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4027#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4026#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4024#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4023#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4022#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4021#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4020#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4019#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4018#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4016#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4015#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4014#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4013#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4012#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4011#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4010#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4007#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4005#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4003#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4002#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)4001#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)361#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)357#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)355#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)354#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)352#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)350#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)347#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)345#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)343#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)342#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)341#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)340#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)339#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)338#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)337#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)336#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)335#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)334#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)332#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)331#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)330#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)329#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)328#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)327#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)326#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)325#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)324#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)322#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)321#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)319#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)317#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)316#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)315#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)314#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)313#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)312#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)311#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)310#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)309#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)305#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)303#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)120#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)118#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)116#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)115#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)114#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)113#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)109#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)108#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)107#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)105#
    8486202100 射频发生器(CVD装置用)104#
    8486202100 太阳能电池镀膜装置(旧)
    8486202100 太阳能减反射膜制造设备
    8486202100 外延炉
    8486202100 垂直化学气相沉积装置(旧)
    8486202100 团簇式多腔体等离子增强化学气相沉积系统
    8486202100 原子层沉积系统
    8486202100 卷对卷化学气相沉积装置R2R CHEMICAL VAPOR
    8486202100 卧式低压化学气相沉积炉管系统;制造器件沉积薄膜;低压化学气相沉积;SVCS
    8486202100 化学气象沉积装置
    8486202100 化学气相淀积设备（旧）
    8486202100 化学气相淀积设备(旧)98年产,已用20年,还可用6年
    8486202100 化学气相淀积设备(旧)00年产，已使用18年，还可用7年
    8486202100 化学气相淀积设备(旧)00年产,已用18年,还可用7年
    8486202100 化学气相沉积设备（旧）
    8486202100 化学气相沉积设备/WJ牌
    8486202100 化学气相沉积设备/NOVELLUS/在
    8486202100 化学气相沉积设备(旧)
    8486202100 化学气相沉积设备
    8486202100 化学气相沉积装置（旧）
    8486202100 化学气相沉积装置
    8486202100 化学气相沉积系统(旧)
    8486202100 化学气相沉积炉(旧)
    8486202100 化学气相沉积炉
    8486202100 化学气相沉淀机（旧）
    8486202100 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
    8486202100 减反射膜制造设备(新格拉斯牌)
    8486202100 减反射膜制造设备
    8486202100 低压化学气相沉积装置(旧)01年产,已用17年,还可用8年
    8486202100 低压化学气相沉积氧化锌镀膜系统
    8486202100 TCO化学气相沉积系统
    8486202100 PECVD设备(旧)
    8486202100 PECVD硅片镀膜机(旧)
    8486202100 PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统)
    8486202100 PECVD化学气相沉积设备
    8486202100 PECVD减反射膜制造设备
    8486202100 PECVD 减反射膜制造设备
    8486202100 IC淀积炉
    8486202100 CVD
    8486202100 C-1淀积炉
    8486202100 (旧)常压化学气相沉积设备

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